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日本蚀刻硅金字塔并涂上铁赋予磁性 可实现电子设备小型化

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时间:1900/1/1 0:00:00

格仕汽车的超小型集成电路彻底改变了手机、家用电器、汽车和其他日常技术。为了进一步使这种电子设备小型化并实现高端功能,有必要以三维方式可靠地制造这种电路。蚀刻硅以获得超精细的3D形状是非常困难的,因为即使在原子尺度上造成损伤也会降低器件性能。据外媒报道,日本奈良高等科学技术大学开发了一种在原子尺度上将硅蚀刻成光滑金字塔形状的新方法。以前,在这种硅金字塔上涂一层薄薄的铁使其具有磁性只是一个理论想法,但现在可以实现了。

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Ken Hattori是NAIST研究员,也是《硅金字塔》的高级作者,他一直在广泛发表原子控制纳米技术领域的论文,他的研究重点之一是改善硅基技术的功能。他说:“硅是现代电子器件的支柱,因为它可以成为半导体或绝缘体,是一种丰富的元素。然而,未来的技术进步需要生产出在3D原子水平上光滑的器件。”将标准干法蚀刻和化学蚀刻相结合是制备金字塔形硅纳米结构阵列的必要方法。到目前为止,在原子水平上制备具有光滑表面的硅是极具挑战性的。该研究的主要作者Aydar Irmiimov说:“我们制作的等腰硅金字塔排列有序,大小相同,所有侧面都是平面的。此外,我们通过使用低能电子衍射图案和电子显微镜证实了这一发现。”在硅上沉积一层30纳米厚的铁可以使其具有磁性。金字塔在原子水平上的方向决定了它的方向,也决定了覆盖铁的特性。Irmikimov表示:“我们的技术可以通过调整衬底的形状来简单地创建圆形磁阵列。这种方法与自旋电子学等先进技术相结合,通过自旋而不是电荷来编码信息,可以大大增强三维电子设备的功能

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